Laboratorium technologiczne

Wśród pomieszczeń laboratoryjnych można wyróżnić trzy typy pomieszczeń: pomieszczenia zaplecza technicznego laboratorium (tzw. maszynownia) oraz przebieralnia, zasadnicza część laboratorium oddzielona od przebieralni śluzą, wydzielone pomieszczenia do przeprowadzania procesu fotolitografii (klasa czystości ~100) oraz wykonywania mokrych operacji chemicznych (tzw. „chemia mokra”).  
  W zasadniczej części Laboratorium (Clean-Room) utrzymywane jest stale nadciśnienie (w stosunku do otaczających je pomieszczeń), które stanowi skuteczną barierę dla wszelkiego rodzaju pyłów i zanieczyszczeń oraz utrzymywana jest przez system klimatyzacji stała temperatura (ok. 22°C) i wilgotność powietrza (ok. 40 %). W pomieszczeniu głównym laboratorium gwarantowana jest klasa czystości 1000.
Skompletowane w laboratorium technologicznym wyposażenie aparaturowe wsparte posiadanymi umiejętnościami nabytymi przez wiele lat prowadzonych prac badawczych pozwala na realizację bardzo szerokiej palety procesów technologicznych oraz prowadzenia prac badawczych z dziedziny elektroniki i fotoniki (wytwarzanie struktur i przyrządów półprzewodnikowych), mikrosystemów MEMS/MOEMS, ale także (co udowodniono już w latach ubiegłych w praktyce) z dziedziny chemii (m.in.: lab-on-chip, sensory), bio-inżynierii (np., czujniki DNA), czy inżynierii materiałowej (badania nad nowymi materiałami do zastosowań w nowych generacjach układów scalonych, czy nietypowymi materiałami kompatybilnymi z szerokopasmowymi półprzewodnikami).  
Zebrane w laboratorium wyposażenie aparaturowe wsparte posiadanymi umiejętnościami nabytymi przez wiele lat prowadzonych prac badawczych pozwala na realizację bardzo szerokiej palety procesów technologicznych. Dodatkowym czynnikiem zapewniającym możliwość współpracy z wieloma partnerami, a także prowadzenie badań w bardzo różnorodnej tematyce jest przystosowanie infrastruktury laboratoryjnej (wyposażenia i aparatury) do możliwości posługiwania się nie tylko typowymi podłożami półprzewodnikowymi w postaci podłoży o standardowych średnicach 2”, 3” oraz 4”, ale także ich fragmentami i nieforemnymi kawałkami. Ma to szczególne znaczenie w przypadku bardzo drogich lub rzadkich podłoży lub warstw, np. węglika krzemu (SiC) lub azotku galu (GaN) lub takich, które posługują się nietypowymi metodami wytwarzania – jak np. grafen czy siarczek molibdenu. Tylko nieliczne laboratoria posiadają taką możliwość przy jednoczesnym zachowaniu pełnego profesjonalizmu w działaniu.