W wyniku rozstrzygnięcia drugiego konkursu MAT-Lab2 w ramach programu "Inicjatywa Doskonałości - Uczelnia Badawcza" finansowanie otrzymał wnioskowany projekt "System do pomiarów i analizy właściwości ferroelektrycznych cienkich warstw oraz ferroelektrycznych przyrządów nanoelektronicznych i fotonicznych". Finansowanie uzyskały trzy projekty; więcej szczegółów znajduje się -> tu.

Planowana do zakupu aparatura umożliwia realizację subtelnych pomiarów własności różnego typu materiałów, w szczególności dielektrycznych oraz kompozytowych, o grubościach nawet w skali nanometrowej, co jest unikatowe dla tej klasy aparatury pomiarowej. Możliwe do realizacji badania naukowe i prace rozwojowe przy wykorzystaniu wnioskowanej do zakupu aparatury są ściśle związane z nowoczesnymi technologiami materiałowymi, czyli strategicznymi kierunkami określonymi w Krajowym Programie Badań. Tego typu badania wpisują się znakomicie w ogólnoświatowy trend zwiększenia dynamiki prac naukowych i rozwojowych zgodnie z tzw. EU Chips-Act – pierwszej w nowożytnej historii polityki inwestycji i zachęcania do podejmowania programów badań naukowych i innowacji w szeroko rozumianym obszarze półprzewodników. Urządzenie do realizacji pomiarów własności FE będzie wykorzystywane nie tylko w jednostce macierzystej autora wniosku, tj. Instytucie Mikroelektroniki i Optoelektroniki (IMiO) na Wydziale Elektroniki i Technik Informacyjnych, ale na zasadzie współpracy naukowej z wieloma Wydziałami w ekosystemie jednostek naukowych w Politechnice Warszawskiej.